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David

Gute Firma mit nettem Service und hohe Qualität und hohes Ansehen. Ein unseres zuverlässigen Lieferanten, Waren werden in Zeit und in nettes Paket geliefert.
John Morris

Materielle Experten, rigorose Verarbeitung, fristgerechte Entdeckung von Problemen in den Konstruktionszeichnungen und von Kommunikation mit uns, durchdachter Service, angemessener Preis und gute Qualität, glaube ich, dass wir mehr Zusammenarbeit haben.
Jorge

Danke für Ihren guten Kundendienst. Ausgezeichnete Sachkenntnis und technische Unterstützung halfen mir viel.
PETRA

durch sehr gute Kommunikation alle Probleme gelöst, zufriedengestellt mit meinem Kauf
Adrian Hayter

Die Wareneingänge dieses mal sind sehr erfüllt, ist die Qualität sehr gut, und die Oberflächenbehandlung ist sehr gut. Ich glaube, dass wir den folgenden Auftrag bald bestellen.

Ansprechpartner : Nicole

Telefonnummer : 13186382597

whatsapp : +8613186382597

PVD-Beschichtung Tantal-Sputterziel für Halbleiterbeschichtung und optische Beschichtung

Herkunftsort	China
Markenname	PRM
Zertifizierung	ISO9001
Modellnummer	Gewohnheit
Min Bestellmenge	1pc
Preis	Negotiate
Verpackung Informationen	Sperrholzgehäuse
Lieferzeit	5 bis 7 Tage
Zahlungsbedingungen	T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit	5tons/month

Treten Sie mit mir für freie Proben und Kupons in Verbindung.

whatsapp:0086 18588475571

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Produktdetails

Name	PVD-Beschichtung Tantal-Ziel	Zulassung	Die in Absatz 1 genannten Angaben sind zu berücksichtigen, sofern sie nicht in Anhang I der Verordnu
Reinheit	≥99.95%	Dichte	160,68 g/cm3
Oberfläche	Arbeitsfläche	Standards	ASTM B708
Lieferstatus	ausgestopft	Form	Flaches Ziel Drehziel Spezielle Anpassung
Hervorheben	Optische Beschichtung Tantal-Ziel , PVD-Beschichtung Tantal-Sputter-Ziel , Tantal-Sputter-Ziel für Halbleiterbeschichtung

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Produkt-Beschreibung

Produktinformationen:

Name	PVD-Beschichtung Tantal Ziel
Zulassung	Die in Absatz 1 genannten Angaben sind zu berücksichtigen, sofern sie nicht in Anhang I der Verordnung (EU) Nr. 1308/2013 enthalten sind.
Reinheit	≥ 99,95%
Dichte	160,68 g/cm³
Oberfläche	Bearbeitete Oberfläche, ohne Gruben, Kratzer, Flecken, Burrs und andere Mängel
Standards	ASTM B708
Form	Flaches Ziel, rotierendes Ziel, spezielle Anpassung.

PVD-Beschichtung Tantal-Sputterziel für Halbleiterbeschichtung und optische Beschichtung 0

Chemischer Gehalt von PVD-Beschichtung Tantalziel:

Zulassung	Hauptelemente		Verunreinigungsanteil kleiner als %
	Das ist...	Nb	Fe	- Ja.	Ni	W	- Das ist Mo.	Ti	Nb	O	C	H	N
Ta1	Bleiben Sie.	- Ich weiß.	0.005	0.005	0.002	0.01	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
Ta2	Bleiben Sie.	- Ich weiß.	0.03	0.02	0.005	0.04	0.03	0.005	0.1	0.03	0.01	0.0015	0.01
TaNb3	Bleiben Sie.	<3.5	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	- Ich weiß.	0.03	0.01	0.0015	0.01
TaNb20	Bleiben Sie.	17.0 ¢ 23.0	0.03	0.03	0.005	0.04	0.03	0.005	- Ich weiß.	0.03	0.01	0.0015	0.01
Ta2,5 W	Bleiben Sie.		0.005	0.005	0.002	3	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01
Ta10W	Bleiben Sie.		0.005	0.005	0.002	11	0.01	0.002	0.04	0.02	0.01	0.0015	0.01

Eigenschaft des PVD-Tantalziels:

hoher Schmelzpunkt,
Niedriger Dampfdruck,
Gute Kaltleistung,
hohe chemische Stabilität,
starke Beständigkeit gegen Korrosion von flüssigem Metall,
Die Oberflächen-Oxidfolie hat eine große Dielektrikkonstante

Anwendung:

Das Tantalziel und das Kupferrückziel werden geschweißt, und dann wird ein Halbleiter- oder optisches Sputtern durchgeführt.und die Tantalatome werden in Form von Oxiden auf dem Substrat abgeschieden, um eine Sputterbeschichtung zu erzielenTantalziele werden hauptsächlich in Halbleiterbeschichtungen, optischen Beschichtungen und anderen Industriezweigen verwendet.Metall (Ta) wird derzeit hauptsächlich zur Beschichtung und Bildung einer Barriere durch physikalische Dampfdeposition (PVD) als Zielmaterial verwendet.

Wir können nach der Zeichnung des Kunden verarbeiten und Ta-Stab, Platte, Draht, Folie, Schmelztiegel usw. produzieren.

Bitte senden Sie uns eine Anfrage für weitere Informationen

Umbauten:

PVD-Beschichtung Tantal-Sputterziel für Halbleiterbeschichtung und optische Beschichtung

Optische Beschichtung Tantal-Ziel

PVD-Beschichtung Tantal-Sputter-Ziel

Tantal-Sputter-Ziel für Halbleiterbeschichtung